真空环境下光学薄膜的激光损伤

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前言

1 绪言

1.1 背景与意义

1.2 真空和空间环境下引起光学薄膜损伤的潜在因素

1.3 真空和空间环境下光学薄膜损伤研究的发展状况

1.4 本章小结

2 真空环境下光学薄膜特性表征及损伤测试系统与测试方法

2.1 光学薄膜的制备及清洗方法

2.2 光学薄膜特性的表征方法

2.3 真空环境下光学薄膜损伤测试系统

2.4 真空环境下光学薄膜损伤测试方法

2.5 本章小结

3 真空环境和特殊气氛下光学薄膜的损伤

3.1 真空环境下电子束沉积制备的光学薄膜单脉冲损伤研究

3.2 真空环境下光学薄膜的多脉冲损伤研究

3.3 环境气氛和气压对真空环境下光学薄膜损伤的影响[54]

3.4 本章小结

4 真空环境下光学薄膜的本征损伤机制

4.1 引言

4.2 气体热传导的影响

4.3 多孔薄膜堆积密度与材料热导率的变化关系[55]

4.4 大气—真空效应对电子束沉积制备的多孔薄膜损伤的影响

4.5 激光辐照诱导再生缺陷的损伤过程[78]

4.6 真空环境下激光辐照诱导等离子体及对材料的离化[79]

4.7 真空环境下激光辐照诱导的非化学计量比缺陷的影响

4.8 本章小结

5 真空环境下有机污染诱导光学薄膜的损伤

5.1 引言

5.2 真空环境下液相有机污染诱导光学薄膜的损伤[82]

5.3 两种有机污染模式对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响

5.4 真空环境下长期的有机放气污染对光学薄膜损伤的影响[85][86]

5.5 本章小结

6 真空环境下光学薄膜抗损伤能力改善技术——后处理技术

6.1 引言

6.2 退火效应对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响

6.3 激光预处理对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响

6.4 本章小结

7 真空环境下光学薄膜抗损伤能力改善方法——薄膜制备方法及沉积参数

7.1 电子束蒸发和离子束溅射制备的光学薄膜损伤特性比较[138]

7.2 氧分压对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响[139]

7.3 本章小结

8 总结

8.1 主要内容总结

8.2 创新点

8.3 对今后工作的建议