第384章 投影曝光

如果没有周硕的干扰，从0.35微米工艺向0.25微米工艺过渡的光刻机，真实历史上实际使用的是步进重复投影曝光技术。

在0.35微米工艺及之前，光刻机光学掩膜版的制作要求是非常高的。基本上和生...