专利信息分析实训
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任务7 常见分析方法

专利信息分析是一种新的商业分析维度,虽然它能提供独到的分析视角但它不是万能的。不管是项目需求方还是研究团队一方,能否确定合适的分析需求有一个前提,那就是首先需要了解专利信息分析真正能解决哪些问题,哪些问题不属于分析范畴。换句话说,首先应当了解专利信息分析的常见分析方法及其用途。

常见的分析方法可以大致归为两类:基于数据统计和基于技术剖析。

(一)基于数据统计的分析方法[9]

基于数据统计的分析,是指通过研究专利申请量信息和各种专利文献著录项目信息的内在联系,以大数据统计为主要手段的分析方法。下面列举几个常见的基于数据统计的分析方法。

(1)专利申请趋势分析。

专利申请趋势分析是以技术或者申请人为视角进行时间维度的专利数量统计,其主要分析用途包括以下内容。

①技术或者申请人全球专利申请趋势,用于反映技术或者申请人的发展历程、技术生命周期、布局策略,以及预测未来发展趋势。

②技术或者申请人在不同地域的专利申请趋势,用于反映技术在不同地域的被关注程度或者申请人对不同地域的关注度,以及预测未来发展趋势。

③技术或申请人的各种类型专利的申请趋势,用于反映技术创新变化动向,评价技术含量高低。

④技术首次申请国的专利申请趋势,用于反映技术输出地的技术创新趋势和活跃程度。

⑤不同技术分支的专利申请趋势,用于反映技术生命周期、技术推动因素以及预测未来技术研发热点。

⑥不同申请人在相同技术领域的专利申请趋势,用于反映申请人对技术的关注程度,预测技术领域未来的市场竞争格局,帮助企业发现潜在的竞争对手或者合作伙伴。

⑦申请人在不同技术领域的专利申请趋势,用于反映申请人的技术研发热点,以及预测未来发展趋势。

(2)技术生命周期分析。

技术生命周期分析是以专利首次申请时间为目标,对专利数量和申请时间两个维度进行统计的分析方法,其主要用途是描述技术的发展成长阶段,从而为之制定相应的技术发展策略。

案例展示3-2

图3-1 氧化物TFT全球和在华技术生命周期对比[10]

全球技术生命周期相比在华技术生命周期时间起点稍早,但发展趋势大致同步,说明氧化物TFT技术从2000年至2009年在全球范围内处于发展期,并且氧化物TFT技术在中国的发展态势已经与全球接轨,中国市场目前在平板显示领域受到各国重视,中国已成为平板显示领域前沿技术发展的有力参与者。

(3)技术构成分析。

技术构成分析是对目标数据以技术组成要素为标准进一步划分的分析方法,其主要用途是寻找核心技术分支及重要专利、了解技术组成要素的密集区、评估技术研发广度及比较分析申请人的技术侧重度。

(4)申请人构成分析。

申请人构成分析是以创新主体为分析目标,对技术、地域、专利类型、法律状态或发明人团队等方面为标准进一步划分的分析方法,其主要用途是评价创新主体的特点和实力,探究创新主体的身份和偏好。

(5)技术输出∕输入地域构成分析。

技术输出∕输入地域构成分析是以技术输出地或技术输入地为分析目标,对技术、申请人、专利类型、法律状态等方面为标准进一步划分的分析方法,其主要用途是分析国家或地区的优势和侧重,明晰技术来源地或目标市场地的专利布局,以及对国家或地区的创新实力进行评价。

(6)法律状态构成分析。

法律状态构成分析是对目标数据以法律状态为标准进一步划分的分析方法,其主要用途是评价技术研发实力,评估技术水平高低,以及衡量专利风险水平。

案例展示3-3

图3-2 ODS消耗臭氧层物质中国专利申请法律状态[11]

如图3-2所示,在2171件中国关于ODS消耗臭氧层物质专利申请中,目前已获得授权的共有1000件,占申请总量的46.1%。其中,国内申请人的授权专利共311件,占国内申请总量(592)的52.5%;国外申请人的授权专利共689件,占国外申请总量(1579)的43.6%。

在上述1000件授权专利中,截至统计日仍处于有效专利权状态的共有785件,包括国内申请人的268件和国外申请人的517件。专利失效(共215件)的原因包括因费用终止、有效期届满、主动放弃和被全部无效四种,相关专利量分别为194件、18件、2件和1件。

(7)申请人排序分析。

申请人排序分析是以创新主体为分析目标,可以从技术、地域、专利类型、法律状态等各个维度进行排名的分析方法,其主要用途是评价技术创新能力、甄选市场合作伙伴,以及比较研发团队人员规模。

案例展示3-4

表3-1 液晶显示产业在华申请人排名[12]

根据上表所示,专利申请量排名前三十位的申请人中,韩国申请人2位,日本申请人16位,中国台湾申请人6位,中国大陆申请人3位,美国申请人2位,荷兰申请人1位。其中韩国三星和LG公司占据了前两位,技术实力突出。2010年11月,三星、LG公司分别在苏州和广州投资设厂,力求进一步抢占中国大陆市场。这两家韩国公司前期在中国的专利布局为其加大市场竞争力度打好了基础。中国台湾的友达光电已经超过日本老牌申请人精工爱普生和夏普公司的申请量而位居第3位。日本精工爱普生和夏普这两家日本最早从事LCD产业的企业,即使在2008年之后受全球经济危机影响较大,而且面临韩国三星和LG公司“流血竞争”的挤压,仍然能够稳居中国大陆申请量第4名和第5名的地位。中国台湾奇美位居第6位,半导体能源和索尼紧跟其后分别为第7位和第9位。作为中国大陆液晶显示行业领军企业的京东方排名第8位,日立位居第10位。中国大陆企业华星光电的技术活跃度最高,2009年以后的申请量占总申请量的94.69%;京东方以58.46%的技术活跃度位居其次。中国的手机、彩电、电脑等下游市场对液晶显示屏需求的进一步扩大,为TFT-LCD技术在中国的新一轮发展提供了难得的机遇,也为中国液晶显示领域重要申请人京东方、华星光电等公司的快速发展提供了保障。

(8)发明人排序分析。

发明人排序分析是以发明人或发明团队为分析目标,可以从技术、地域、专利类型、法律状态等各个维度进行排名的分析方法,其主要用途是辅助企业人才引进、评价技术创新能力、关注技术前沿动向。

(9)技术输出∕输入地域排序分析。

技术输出∕输入地域排序分析是以技术输出地或技术输入地为分析目标,可以从技术、申请人、专利类型、法律状态等各个维度进行排名的分析方法,其主要用途与技术输出∕输入地域构成分析类似,同样是分析国家或地区的优势和侧重,明晰技术来源地或目标市场地的专利布局,以及对国家或地区的创新实力进行评价。

(10)技术构成排序分析。

技术构成排序分析是以技术组成要素为分析目标,可以从地域、专利类型、法律状态等各个维度进行排名的分析方法,其主要用途与技术构成分析类似,同样是寻找核心技术分支及重要专利、了解技术组成要素的密集区、评估技术研发广度、比较分析申请人的技术侧重度。

(11)专利引文分析。

专利引文分析的理论基础在于:新技术的发展往往依托于原有技术的研究成果,专利文献既可以引用相关文献,也可以被其他专利文献所引用。专利引文分析,就是通过观察专利的引用或被引用情况,对大量引证数据进行归纳、统计、比较和总结的分析方法。专利引文分析可以是单纯的定量分析,例如被引频次分析,也可以是单纯的定性分析,例如专利挖掘分析,还可以是综合定量分析和定性分析的拟定量分析,例如技术演进分析。

(二)基于技术剖析的分析方法

基于技术剖析的分析,可以依托也可以不依托基于数据统计的分析,二者的区别在于基于技术剖析的分析一定要经过研究人员对专利技术方案的阅读和理解,或者说要经过研究人员对专利数据的整体或局部进行定性的判断。以下列举几个常见的基于技术剖析的分析方法。

(1)专利技术路线分析。

专利技术路线分析,是通过探寻技术发展进程中的专利关键节点,进而勾勒出技术发展路径的分析方法,其主要用途是梳理技术发展主线,预测技术发展方向,寻找技术合作伙伴。

(2)技术功效矩阵分析。

技术功效矩阵分析,是通过对专利文献的技术分支和功能效果进行数据标引,并基于标引的结果,从技术分支和功能效果两个维度进行数据统计的分析方法,其主要用途是了解专利集群的技术布局情况,寻找技术重点和空白点,发现潜在研发方向,辅助专利挖掘。

(3)重要专利分析。

重要专利分析,是综合考虑专利指标、技术指标、法律指标和市场指标等四个维度的因子,对目标专利数据进行剔除筛选的分析方法,其主要用途是专利价值评估、专利风险预警、专利布局解析等。

案例展示3-5

图3-3 CD20抗体药物专利组合授权专利法律属性价值量化图[13]

A:权利要求保护范围;B:权利稳定性;C:技术实施可规避性;

D:实施的专利依赖性;E:专利侵权可判定性;F:剩余保护时间;

G:多国申请和授权状况;H:专利许可和诉讼状况罗氏制药在CD20抗体药物方面具有一个由11件重要专利组成的专利组合,研究人员进一步对CD20抗体的上述组合的法律属性进行量化。将11项已授权专利的其他不同法律属性根据性质强弱分为1~7七个等级,除专利剩余保护时间可以为0之外,其他属性均给予1~7分的分值,在专利组合内部进行不同专利不同法律属性的横向比较和量化参见图3-3所示。通过对罗氏CD20抗体药物相关重要专利组合的法律属性和技术属性的分析和评估,不难发现,上述专利组合对于罗氏的两个已上市CD20抗体药物——Rituxan和Gazyva有着强有力的保护作用。

上述专利组合仅是从罗氏CD20抗体药物相关的100多项专利中筛选出来的11项专利,而围绕着CD20抗体药物的所有专利是分层次、多角度对罗氏的CD20抗体药物进行保护,具体的抗体序列专利是最核心的专利,它们有效地将最核心的抗体药物产品本身包裹其中,有效防护他人对抗体药物的直接侵权。

(4)保护范围分析。

保护范围分析,是对目标专利文献的权利要求保护范围进行分析的方法,其中包括对权利要求的稳定性分析,以及对权利要求的解释。保护范围分析对研究人员的要求较高,需要研究人员具备一定的司法实务经验,能够把握法院或者专利复审委员会的判决标准,从而进行分析和解读。保护范围分析的主要用途是了解技术自由实施度,评估侵权风险,以及辅助规避设计。

(5)权利要求比对分析。

权利要求比对分析,是指将产品特征或方法步骤与目标专利文献的权利要求特征进行一一比对的分析方法,其主要用途是判断产品或方法是否涉及直接侵权行为。一般来说,权利要求比对分析可以结合保护范围分析一同进行。

(6)规避设计分析。

规避设计分析,是指以避免专利侵权为目的,基于对目标专利文献的权利要求保护范围进行分析,通过规避手段产出新产品方案和专利技术的分析方法。规避设计分析的用途主要是避免侵权风险和专利挖掘。