模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现
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2.7.2 扩散电容

当PN结正向偏置时,由于偏置电压为正,耗尽区变窄,耗尽层电容增加。然而,在正向偏置条件下,大量的少数载流子注入PN结。于是耗尽层附近区域就会有过量的少数载流子电荷聚集,这将导致严重的电荷存储效应。耗尽层边缘附近过量的电荷浓度最高,随着与 PN 结距离增加而呈指数关系下降趋向零,如图2.10 所示。其中 pn是在 N 区的空穴浓度,np为在 P区的电子浓度。如果改变施加到二极管上的电压,存储在 P 区和 N 区的少子电荷量也发生变化,直到达到一个新的稳态条件。因此,由于少子电荷的存储,正偏的 PN 结呈现电容效应。这些电荷与流过二极管的电流成比例。电荷qm与正向电压VD表示为:

此处,q0是恒定电荷,与漏 (反向饱和) 电流密度 Js成比。因此,正偏二极管的 q-v 特性是非线性的,可以用称为扩散电容的小信号电容C d表征,即:

该式表明Cd与qm+q0成正比例关系。反偏情况下,Cd=0。而正偏条件下,Cd的值几乎与Q点的DC偏置电流I D呈比例关系,即:

式中,Kd为常数,Cd的值与PN结点的横截面积成正比。典型的,范围在10~100pF之间。