薄膜技术与薄膜材料

封面

版权信息

摘要

前言

1 物理气相沉积

1.1 物理气相沉积

1.2 真空蒸发镀膜

1.3 溅射镀膜

1.4 离子镀膜

2 化学气相沉积

2.1 化学气相沉积的特点和分类

2.2 CVD反应类型

2.3 CVD过程的热力学

2.4 CVD中的气体输运

2.5 CVD中薄膜生长动力学

2.6 CVD装置

2.7 低压化学气相沉积

2.8 等离子化学气相沉积

2.9 金属有机物化学气相沉积

2.10 激光化学气相沉积

2.11 分子束外延

3 硬膜材料

3.1 金刚石薄膜

3.2 类金刚石薄膜

3.3 立方氮化硼薄膜

3.4 CNx膜

3.5 氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜

4 薄膜在液相中的化学及电化学制备

4.1 薄膜在液相中的化学转化制备

4.2 薄膜在液相中的电化学转化制备